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The Effect of TiO2 Addition on Low-temperature Sintering Behaviors in a SnO2-CoO-CuO System

发表:2024/04/30
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TL;DR 精炼摘要

本研究探讨了通过添加二氧化钛(TiO2)在低温(950°C)下实现二氧化锡(SnO2)-钴氧化物(CoO)-铜氧化物(CuO)系统的有效烧结。TiO2的添加显著改善了样品的致密化行为,主要的传质机制为晶界扩散。这一方法可为气体传感器材料提供合适的多孔微观结构与机械强度。

摘要

Pure SnO2 has proven very difficult to densify. This poor densification can be useful for the fabrication of SnO2 with a porous microstructure, which is used in electronic devices such as gas sensors. Most electronic devices based on SnO2 have a porous microstructure, with a porosity of > 40%. In pure SnO2, a high sintering temperature of approximately 1300°C is required to obtain > 40% porosity. In an attempt to reduce the required sintering temperature, the present study investigated the low-temperature sinterability of a current system. With the addition of TiO2, the compositions of the samples were Sn1-xTixO2-CoO(0.3wt%)-CuO(2wt%) in the range of x ≤ 0.04. Compared to the samples without added TiO2, densification was shown to be improved when the samples were sintered at 950°C. The dominant mass transport mechanism appears to be grain-boundary diffusion during heat treatment at 950°C.

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1. 论文基本信息

1.1. 标题

TiO₂ 添加对 SnO₂-CoO-CuO 系统低温烧结行为的影响
(The Effect of TiO₂ Addition on Low-temperature Sintering Behaviors in a SnO₂-CoO-CuO System)

1.2. 作者

  • 第一作者: Jae-Sang Lee
  • 其他作者: Kyung-Sik Oh
  • 通讯作者: Yeong-Kyeun Paek (安东国立大学,韩国)

1.3. 发表期刊/会议

  • 发表状态: 已发表
  • 发表时间 (UTC): 2024-04-30
  • 领域: 陶瓷材料科学、电子陶瓷、烧结技术

1.4. 摘要

本文研究了在纯二氧化锡 (SnO2\mathrm{SnO_2}) 难以致密化的背景下,如何通过添加氧化钴 (CoO\mathrm{CoO})、氧化铜 (CuO\mathrm{CuO}) 和二氧化钛 (TiO2\mathrm{TiO_2}) 来实现低温烧结。研究旨在降低烧结温度至 950C950^{\circ}\mathrm{C},同时获得适用于气体传感器等电子器件的多孔微观结构(孔隙率 >40%> 40\%)。结果表明,添加 TiO2\mathrm{TiO_2} 改善了样品在低温下的致密化行为,主要的传质机制是晶界扩散 (Grain-boundary Diffusion)

1.5. 原文链接

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2. 整体概括

2.1. 研究背景与动机

  • 核心问题:SnO2\mathrm{SnO_2} 是一种 N 型半导体,广泛用于气体传感器。然而,它非常难致密化。在高温下(即使 >1300C>1300^{\circ}\mathrm{C}),由于非致密化机制(如表面扩散和蒸发-冷凝)占主导,很难获得高强度材料。
  • 应用需求: 对于气体传感器,需要一种既具有多孔结构(高比表面积以提高灵敏度,孔隙率需 >40%>40\%),又具有足够机械强度的材料。
  • 挑战: 通常为了获得高强度,需要高温烧结,但这会显著降低孔隙率并增加能耗。目前的挑战是如何在低温950C950^{\circ}\mathrm{C})下实现这种平衡。
  • 切入点: 作者选择了一个复合掺杂系统 SnO2-CoO-CuO\mathrm{SnO_2}\text{-}\mathrm{CoO}\text{-}\mathrm{CuO},并尝试引入 TiO2\mathrm{TiO_2} 作为第三种添加剂,利用多种氧化物的协同效应来激活低温下的晶界扩散。

2.2. 核心贡献与主要发现

  • 低温烧结系统: 开发了成分为 Sn1xTixO2-CoO(0.3wt%)-CuO(1wt%)\mathrm{Sn}_{1-x}\mathrm{Ti}_{x}\mathrm{O}_{2}\text{-}\mathrm{CoO}(0.3\mathrm{wt\%})\text{-}\mathrm{CuO}(1\mathrm{wt\%}) 的材料体系,成功在 950C950^{\circ}\mathrm{C} 实现了有效烧结。

  • 致密化机制: 发现 TiO2\mathrm{TiO_2} 的加入促进了低温致密化,确认主导的传质机制是晶界扩散,而非晶格扩散(体扩散)。

  • 微观结构控制: 证实 TiO2\mathrm{TiO_2} 能够抑制晶粒生长(晶粒尺寸从 172 nm172\ \mathrm{nm} 减小到 132 nm132\ \mathrm{nm}),有助于维持多孔结构的同时提高材料性能。


3. 预备知识与相关工作

3.1. 基础概念

为了理解本文,初学者需要掌握以下材料科学基础:

  • 烧结 (Sintering): 将粉末材料加热到熔点以下,使其颗粒粘结、收缩并形成坚固固体的过程。
    • 致密化机制 (Densifying Mechanism): 使颗粒中心距离缩短,消除气孔,体积收缩(如晶界扩散、晶格扩散)。
    • 非致密化机制 (Non-densifying Mechanism): 物质重新分布但颗粒中心距离不变,导致晶粒粗化但不收缩(如表面扩散、蒸发-冷凝)。纯 SnO2\mathrm{SnO_2} 难烧结就是因为后者占主导。
  • 晶界扩散 (Grain Boundary Diffusion): 原子沿着晶粒之间的边界移动的过程。这通常比原子穿过晶粒内部(晶格扩散)需要的能量更低,因此在较低温度下更活跃。
  • 固溶体 (Solid Solution): 溶质原子溶入溶剂晶格中,保持溶剂晶体结构均一的相。本文中 Ti\mathrm{Ti} 原子进入 SnO2\mathrm{SnO_2} 晶格替代 Sn\mathrm{Sn} 原子。
  • 缺陷化学 (Defect Chemistry): 研究晶体中原子缺失(空位)、额外原子(间隙)或杂质替代及其对材料性能影响的学科。空位通常是原子移动的“通道”,促进扩散。

3.2. 前人工作与技术演进

  • 纯 SnO2 的局限:SnO2\mathrm{SnO_2} 需要极高温度(>1300C>1300^{\circ}\mathrm{C})才能获得一定强度,且很难控制孔隙率。

  • CoO 的作用: 前人研究 [7] 表明,CoO\mathrm{CoO} 掺杂可以产生氧空位 (Oxygen Vacancies)。这是因为 Co2+\mathrm{Co}^{2+} 替代 Sn4+\mathrm{Sn}^{4+} 时,为了电荷平衡,晶格会失去一个氧原子(形成空位)。公式概念如下: CoOSnO2CoSn+VO+OOx \mathrm{CoO} \xrightarrow{\mathrm{SnO_2}} \mathrm{Co''_{Sn}} + V_O^{\bullet\bullet} + O_O^x 这里的 VOV_O^{\bullet\bullet} (带正电的氧空位) 加速了原子的移动,促进烧结。

  • CuO 的作用: CuO\mathrm{CuO} 被称为活化剂 (Activator),能在较低温度(约 1000C1000^{\circ}\mathrm{C})启动晶界扩散 [6]。

  • 本文的差异化: 本文结合了 CoO 和 CuO 的优点,并进一步引入 TiO2\mathrm{TiO_2}。由于 TiO2\mathrm{TiO_2}SnO2\mathrm{SnO_2} 同构(都是金红石结构),作者试图探究同价态替代(Ti4+\mathrm{Ti}^{4+}Sn4+\mathrm{Sn}^{4+})在低温下的协同效应。


4. 方法论

4.1. 方法原理:活化烧结与协同效应

本文的核心方法论是利用添加剂诱导的缺陷固溶效应来改变 SnO2\mathrm{SnO_2} 的烧结动力学。

  1. 基础基质: SnO2-CoO-CuO\mathrm{SnO_2}\text{-}\mathrm{CoO}\text{-}\mathrm{CuO}。其中 CuO\mathrm{CuO}CoO\mathrm{CoO} 主要负责在晶界处产生缺陷和液相辅助,降低烧结活化能。
  2. 调节剂: TiO2\mathrm{TiO_2}
    • TiO2\mathrm{TiO_2}SnO2\mathrm{SnO_2} 形成无限固溶体。
    • 虽然 Ti4+\mathrm{Ti}^{4+}Sn4+\mathrm{Sn}^{4+} 价态相同,理论上不产生氧空位,但 Ti\mathrm{Ti} 的引入会改变晶格参数(Ti\mathrm{Ti} 半径小于 Sn\mathrm{Sn}),产生晶格畸变,并可能在晶界处影响 Sn\mathrm{Sn} 的间隙或空位浓度,从而协同促进晶界扩散。

4.2. 介电常数计算与极化机制

作者通过测量介电常数来间接验证烧结机制(晶界扩散)。

计算公式: 介电常数 (εr\varepsilon_r) 的计算基于平行板电容器原理: εr=CdεoA \varepsilon_r = \frac{C \cdot d}{\varepsilon_o \cdot A} 符号解释:

  • εr\varepsilon_r: 相对介电常数 (Relative dielectric constant),无量纲。
  • CC: 实测的电容值 (Capacitance),单位为法拉 (F)。
  • dd: 样品的厚度 (Thickness),单位为米 (m)。
  • εo\varepsilon_o: 真空介电常数 (Dielectric constant in vacuum),常数,约为 8.854×1012 F/m8.854 \times 10^{-12}\ \mathrm{F/m}
  • AA: 电极的面积 (Area),单位为平方米 (m2\mathrm{m^2})。

物理意义: 高介电常数通常源于两种极化机制:

  1. 旋转方向极化 (Rotation Direction Polarization, RDP): 由氧空位 (VOV_O^{\bullet\bullet}) 和氧离子形成的偶极子在电场下旋转。
  2. 空间电荷极化 (Space Charge Polarization, SCP): 载流子在晶界处被缺陷捕获并堆积。 如果观察到显著的 SCP,说明晶界处存在大量缺陷,这侧面印证了“晶界扩散”是主要的传质机制。

5. 实验设置

5.1. 原材料与样品制备

  • 原料: 高纯度 SnO2\mathrm{SnO_2} (99.0%)、CoO\mathrm{CoO} (<325 mesh)、CuO\mathrm{CuO} (99.9%)、金红石相 TiO2\mathrm{TiO_2} (99.9%)。
  • 混合: 湿法球磨 (Wet-milling) 24小时,介质为锆球和乙醇。
  • 成型:
    1. 单轴加压: 0.5 MPa。
    2. 冷等静压 (CIP): 100 MPa,3分钟。这确保了生坯(烧结前的粉末块)具有均匀的高密度。
  • 烧结: 950C950^{\circ}\mathrm{C},空气氛围,保温 8 小时。

5.2. 评估指标与设备

  • 物相分析: X射线衍射 (XRD)。用于判断是否形成固溶体或第二相。
  • 密度测量: 阿基米德法 (Archimedes method)。通过测量样品在空气中和水中的重量差来计算体积和密度。
  • 微观结构:
    • BET 比表面积: 氮气吸附法。用于测量单位质量粉末的总表面积,反映孔隙多少。
    • SEM (扫描电镜): 观察晶粒大小和孔隙形态。
  • 介电性能: 使用源表在 10210^2106 Hz10^6\ \mathrm{Hz} 频率范围内测量。

5.3. 对比基线

实验主要对比了不同 TiO2\mathrm{TiO_2} 掺杂量(x=0,0.01,0.02,0.04x = 0, 0.01, 0.02, 0.04)的样品。其中 x=0x=0 的样品(仅含 CoO\mathrm{CoO}CuO\mathrm{CuO})作为基线,用于评估 TiO2\mathrm{TiO_2} 的额外效果。


6. 实验结果与分析

6.1. 物相分析 (XRD)

下图(原文 Fig. 1)展示了不同 TiO2\mathrm{TiO_2} 含量下的 X 射线衍射图谱:

Fig. 1. X-ray diffraction patterns of \(\\mathrm { S n _ { 1 - x } T i _ { x } O _ { 2 } { - } C o O ( 0 . 3 w t \\% ) }\) . \(\\mathrm { C u O } ( 1 \\mathrm { w t \\% } )\) samples: (a) (i) \(\\mathbf { \\boldsymbol { x } } = \\mathbf { \\boldsymbol { 0 } } ,\) (ii) \(\\mathbf { X } = 0 . 0 1\) , (iii) \(\\mathbf { x } = 0 . 0 2 ,\) ,and (iv) \(\\mathbf { X } = 0 . 0 4\) (b) detailed view of the region of \(3 3 - 4 0 ^ { \\circ }\) , sintered at \(9 5 0 ^ { \\circ } \\mathrm { C }\) for \(^ { 8 \\mathrm { h } }\) . 该图像是图表,展示了 ext{Sn}_{1-x} ext{Ti}_{x} ext{O}_{2} - ext{CoO}(0.3 ext{wt ext{%}}) - ext{CuO}(2 ext{wt ext{%}}) 的 X 射线衍射图谱,包括不同 xx 值的样本: (a) (i) x=0x=0,(ii) x=0.01x=0.01,(iii) x=0.02x=0.02,(iv) x=0.04x=0.04;(b) 是 33exto33^{ ext{o}}40exto40^{ ext{o}} 之间的详细视图,样本在 950extoextC950^{ ext{o}} ext{C} 下烧结 8 小时。

  • 分析:
    • 只观察到 SnO2\mathrm{SnO_2} (金红石相) 和微量的 CuO\mathrm{CuO} 峰。
    • 没有发现 TiO2\mathrm{TiO_2}CoO\mathrm{CoO} 的独立峰,说明 TiO2\mathrm{TiO_2}CoO\mathrm{CoO} 已经完全溶入 SnO2\mathrm{SnO_2} 基体中形成了固溶体 (Sn,Ti)O2(\mathrm{Sn,Ti})\mathrm{O_2}
    • 图 1(b) 显示峰位轻微向左(低角度)移动或变化,这是由于 Ti\mathrm{Ti} 溶入导致晶格参数改变,证实了固溶体的形成。

6.2. 致密化行为

下图(原文 Fig. 2)展示了烧结密度随 TiO2\mathrm{TiO_2} 含量的变化:

Fig. 2. Sintered densities of \(\\mathrm { S n _ { 1 - x } T i _ { x } O _ { 2 } \\mathrm { - C o O ( 0 . 3 w t \\% ) \\mathrm { - C u O ( 1 w t \\% ) } } }\) samples with \(\\mathrm { T i O } _ { 2 }\) content, sintered at \(9 5 0 ^ { \\circ } \\mathrm { C }\) for \(^ { 8 \\mathrm { h } }\) . 该图像是一个图表,展示了不同 ext{TiO}_2 含量下,经过 950ext°C950^{ ext{°C}} 烧结 8 小时的 ext{Sn}_{1-x} ext{Ti}_{x} ext{O}_2- ext{CoO}(0.3 ext{wt ext{%}})- ext{CuO}(2 ext{wt ext{%}}) 样品的烧结密度。随着 ext{TiO}_2 含量的增加,样品的烧结密度逐渐提升。

  • 核心结果: 随着 TiO2\mathrm{TiO_2} 含量从 0 增加到 0.04 mol,样品的烧结密度逐渐提高。
  • 机制分析: SnO2-CoO\mathrm{SnO_2}\text{-}\mathrm{CoO}SnO2-CuO\mathrm{SnO_2}\text{-}\mathrm{CuO} 系统已知是低温活化烧结系统。TiO2\mathrm{TiO_2} 的加入进一步增强了这一效应。虽然 Ti4+\mathrm{Ti}^{4+} 是同价替代,但它可能通过在晶界附近产生 Sn\mathrm{Sn} 间隙或空位,协同促进了晶界扩散

6.3. 微观结构与孔隙率

为了验证是否适合做气体传感器,作者测量了孔隙结构。

BET 比表面积: 下图(原文 Fig. 3)显示 BET 表面积随 TiO2\mathrm{TiO_2} 增加而减小。这与密度增加的结果一致(更致密意味着表面积更小)。

Fig. 3. Brunauer-Emmett-Teller (BET) surface areas of \(\\mathrm { S n } _ { \\mathrm { 1 - x } } \\mathrm { T i } _ { \\mathrm { x } } \\mathrm { O } _ { 2 }\) . \(\\mathrm { C o O } ( 0 . 3 \\mathrm { w t \\% } )\) \(. C \\mathrm { u O } ( 1 \\mathrm { w t \\% } )\) samples with \(\\mathrm { T i O } _ { 2 }\) content, sintered at \(9 5 0 ^ { \\circ } \\mathrm { C }\) for \(^ { 8 \\mathrm { h } }\) .

孔径分布: 下图(原文 Fig. 5)显示孔径分布在所有样品中基本保持一致。这意味着 TiO2\mathrm{TiO_2} 主要影响致密度和晶粒大小,而不是孔的尺寸分布。

Fig. 5. Adsorption pore size distributions of \(\\mathrm { S n } _ { \\mathrm { 1 - x } } \\mathrm { T i } _ { \\mathrm { x } } \\mathrm { O } _ { 2 }\) -CoO \(( 0 . 3 \\mathrm { w t \\% } )\) \(. \\mathrm { C u O } ( 1 \\mathrm { w t } \\% )\) samples with \(\\mathrm { T i O } _ { 2 }\) content, sintered at \(9 5 0 ^ { \\circ } \\mathrm { C }\) for \(^ { 8 \\mathrm { h } }\) .

晶粒形态 (SEM): 下图(原文 Fig. 6)展示了断裂面的微观结构:

Fig. 6. Scanning electron microscopy (SEM) images of fractured surfaces of \(\\mathrm { S n } _ { \\mathrm { 1 - x } } \\mathrm { T i } _ { \\mathrm { x } } \\mathrm { O } _ { 2 }\) \(\\mathrm { C o O } ( 0 . 3 \\mathrm { w t \\% } )\) -CuO(1wt%) samples, sintered at \(9 5 0 ^ { \\circ } \\mathrm { C }\) for \(^ { 8 \\mathrm { h } }\) (a) \(\\mathbf { X } = 0\) and (b) \({ \\bf X } = 0 . 0 4\) . 该图像是图6,显示了经 950^{ullet}C 烧结8小时的 ext{Sn}_{1-x} ext{Ti}_x ext{O}_2 ext{CoO}(0.3 ext{wt ext{%}})- ext{CuO}(1 ext{wt ext{%}}) 样品的扫描电子显微镜(SEM)图像。图中(a)为 x=0x=0 的样品,(b)为 x=0.04x=0.04 的样品,展示了它们的断裂表面微观结构。

  • 对比: 左图 (a) 是不含 TiO2\mathrm{TiO_2} 的样品,右图 (b) 是含 0.04 mol TiO2\mathrm{TiO_2} 的样品。
  • 发现:
    1. 两者都显示出多孔结构(符合传感器需求)。
    2. 添加 TiO2\mathrm{TiO_2} 后,晶粒尺寸从 172 nm172\ \mathrm{nm} 减小到 132 nm132\ \mathrm{nm}
    3. 结论: TiO2\mathrm{TiO_2} 抑制了晶粒生长,这通常有利于提高材料的机械强度。

6.4. 介电性能验证

下图(原文 Fig. 7)展示了介电常数随频率的变化:

Fig. 7. Dielectric constants with various frequencies of \(\\mathrm { S n } _ { \\mathrm { 1 - x } } \\mathrm { T i } _ { \\mathrm { x } } \\mathrm { O } _ { 2 } \\mathrm { - }\) . \(\\mathrm { C o O } ( 0 . 3 \\mathrm { w t \\% } )\) \(. C \\mathrm { u O } ( 1 \\mathrm { w t \\% } )\) samples at room temperature, sintered at \(9 5 0 ^ { \\circ } \\mathrm { C }\) for \(^ { 8 \\mathrm { h } }\) . 该图像是图表,展示了不同频率下 ext{Sn}_{1-x} ext{Ti}_x ext{O}_2- ext{CoO} (0.3 ext{ wt ext{ extpercent}})extCuO(2extwtextextpercent) ext{CuO} (2 ext{ wt ext{ extpercent}}) 样品的介电常数,x的取值分别为0、0.01、0.02和0.04,且在950°C下烧结8小时。

  • 现象: 在低频 (< 1 kHz) 下,所有样品的介电常数都非常高(远高于静态介电常数 ~24)。在高频下迅速下降。

  • 解释: 这种低频高介电响应是由空间电荷极化 (SCP) 引起的。电荷在晶界处堆积,说明晶界处存在大量的缺陷。

  • 推论: 这有力地支持了晶界扩散是低温下主导传质机制的假设,因为活跃的晶界缺陷是晶界扩散的前提。


7. 总结与思考

7.1. 结论总结

  1. 低温烧结实现: 通过添加 CoO\mathrm{CoO} (0.3wt%0.3\mathrm{wt\%})、CuO\mathrm{CuO} (1wt%1\mathrm{wt\%}) 和 TiO2\mathrm{TiO_2} (x0.04x \le 0.04),成功在 950C950^{\circ}\mathrm{C} 下实现了 SnO2\mathrm{SnO_2} 的烧结。
  2. 微观结构: 获得了孔隙率约为 40%40\% 的多孔微观结构,且 TiO2\mathrm{TiO_2} 的加入细化了晶粒(至 132 nm132\ \mathrm{nm}),这对维持机械强度和传感器性能至关重要。
  3. 机理确认: 烧结密度的提高和低频下巨大的介电常数证实,该体系的致密化主要由晶界扩散机制控制,各添加剂之间存在协同效应。

7.2. 局限性与未来工作

  • 局限性:
    • 论文虽然提出了 TiO2\mathrm{TiO_2} 促进烧结,但对于 Ti4+\mathrm{Ti}^{4+} 同价替代如何具体产生促进扩散的缺陷(如具体的缺陷化学反应方程式),解释得相对定性,缺乏直接的缺陷光谱学证据(如正电子湮没谱)。
    • 机械强度虽然被提及为设计目标,但文中并没有提供具体的机械强度测试数据(如抗弯强度),仅通过晶粒细化来推测强度的保持。
  • 未来方向:
    • 直接测试该材料的气体传感性能(灵敏度、响应时间),以验证其应用价值。
    • 进行机械性能测试,量化多孔结构的力学稳定性。

7.3. 个人启发与批判

  • 启发: 这项工作展示了在材料科学中“鸡尾酒疗法”的有效性。单一掺杂(如仅 CoO)可能只能解决部分问题(如产生空位),但复合掺杂(CoO+CuO+TiO2)可以同时调节烧结温度、晶粒生长和孔隙率。
  • 批判: 关于 TiO2\mathrm{TiO_2} 的作用机理,作者提到 Ti\mathrm{Ti} 溶解形成固溶体不产生氧空位,但又说会产生 Sn\mathrm{Sn} 间隙或空位。这部分逻辑在原文中略显跳跃。通常同价掺杂更多是通过产生的晶格应力(由于离子半径差异 Ti4+<Sn4+Ti^{4+} < Sn^{4+})来影响晶界迁移率,或者是 TiO2\mathrm{TiO_2} 在晶界处的偏析行为影响了扩散。对初学者来说,需要理解这里存在一定的理论推测成分。

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